Technologie de silice fumée

​Haute performance

Technologie de silice fumée

Processus de fabrication complètement fermé ;

Système de contrôle automatique de la combustion ;

Rapport de mélange de matières premières simples ou multiples ;

Marques de produits diversifiées et capacité de production élevée sur une seule ligne ; Laboratoire de recherche et développement d'applications.

La technologie de ce projet est optimisée et innovée sur la base de l'absorption de l'expérience technologique avancée étrangère, de sorte que l'investissement dans l'appareil est moindre.

Par rapport à la technologie nationale des processus ouverts, les avantages sont énormes et peuvent atteindre pleinement le niveau technique des entreprises à capitaux étrangers :

A、Capacité de production annuelle élevée d'une seule ligne : ;;::5000 tonnes

(tétrachlorure de silicium comme matière première) ;

B、La variété de matières premières de réaction, STC, TCS, MTS, peut être mélangée dans n'importe quelle proportion pour produire de la silice fumée ;

C、Fabrication en processus fermé : des matières premières aux produits en système entièrement fermé, les impuretés du produit sont très peu nombreuses ;

D、Contrôle automatique des équipements de fabrication, sûr et conve­bon fonctionnement;

E、Le coût d'exploitation et de maintenance est faible, et le mainte­le financement est planifié une fois par an ;

F、La marque de produits est complète, des produits bas de gamme aux produits haut de gamme pour répondre aux besoins de différents domaines,

G、Protection de l'environnement et sécurité : traitement inoffensif de trois déchets, environnement de travail propre et sûr.

Matières premières et équation de réaction

Les principales matières premières pour la production de silice fumée sont les chlorosilanes, l’hydrogène et l’air. Les principaux types de chlorosilanes utilisés dans ce procédé comprennent le tétrachlorure de silicium (SiCl₄), trichlorosilane (SiHCl₃), méthyltrichlorosilane (CH₃SiCl₃), et le dichlorométhylsilane (CH₃HSiCl₂).

Tétrachlorure de silicium (SiCl₄) :SiCl4​+2H2​+O2​→SiO2​+4HCl

Trichlorosilane (SiHCl₃) : SiHCl3​+1,5H2​+O2​→SiO2​+3HCl

Méthyltrichlorosilane (CH₃SiCl₃) :CH3​SiCl3​+2H2​+3O2​→SiO2​+3HCl+2H2​O+CO2​

Dichlorométhylsilane (CH₃HSiCl₂) :CH3​HSiCl2​+H2​+3O2​→SiO2​+2HCl+2H2​O+CO2

Résumé du processus de réaction :

Dans tous les cas, le chlorosilane (SiCl₄, SiHCl₃, CH₃SiCl₃, ou CH₃HSiCl₂) subit une hydrolyse en présence d'hydrogène et d'oxygène à haute température (1500°C à 2000°C). Les réactions produisent de fines particules de silice (SiO₂), le chlorure d'hydrogène (HCl) et d'autres sous-produits tels que l'eau (H₂O) et le dioxyde de carbone (CO₂) selon le type de chlorosilane utilisé. Ces réactions se déroulent dans un environnement de flamme. Dans tous les cas, le chlorosilane (SiCl₄, SiHCl₃, CH₃SiCl₃, ou CH₃HSiCl₂) subit une hydrolyse en présence d'hydrogène et d'oxygène à haute température (1 500°C à 2 000°C). Les réactions produisent de fines particules de silice (SiO₂), du chlorure d'hydrogène (HCl) et d'autres sous-produits, conduisant à la formation de silice fumée, qui est ensuite collectée et traitée pour être utilisée dans diverses applications industrielles.